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　　公司回答表示，尊敬的投资者，您好。光刻胶当下主要是SPM工艺，该工艺可以满足当下制程的要求，但是因为环保与经济型的考虑，一直以来国内外在开始研究用臭氧清洗替代，但目前处于工艺交替的初期，并没有完全成熟切换，根据工艺试验，臭氧水用于不同光刻胶的处理需要不同的浓度，一般需要满足85ppm以上的臭氧水浓度，目前国林半导体臭氧水发生器的浓度可以实现100ppm以上，最高到150ppm，因此可以满足使用。随着时间的推移以及工艺升级的需求，未来会是一种必然的趋势。感谢您的关注。